반도체 스토캐스틱(stochastic) 기반 분석과 제어 솔루션 전문업체인 프랙틸리아는 자사의 FAME™(Fractilia Automated Measurement Environment, 프랙틸리아 자동화 측정 환경) 포트폴리오에 최신 제품인 FAME 300을 추가한다고 22일 밝혔다.

대량 제조(high-volume manufacturing, 이하 HVM) 팹 환경에서의 사용을 위해 특별히 설계된 FAME 300은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링 할 수 있다. FAME 300을 활용하면 팹에서 스토캐스틱 변이로 인해 발생하는 잠재적 공정 문제를 단 몇 분만에 파악할 수 있어, 신속한 수정 조치를 통해 자사의 패터닝 공정에 대한 제어를 개선하고 수율을 최적화할 수 있다.

FAME 300은 프랙틸리아의 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model) 특허 기술을 활용한다. 이 기술은 CD(Critical Dimension; 임계 선폭) 측정뿐 아니라 거칠기를 포함한 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정밀하게 측정할 수 있는 팹 솔루션이다. 프랙틸리아의 제품은 반도체 제조사, 장비 회사 및 반도체 원재료 공급사의 연구 개발 및 공정 개발 환경에서 이미 검증되었다. 프랙틸리아 제품을 사용하여 수행된 모든 측정은 연구 개발 단계에서 HVM 단계로 이전될 수 있으며 완전 자동화가 가능하다.

새로운 FAME 300 플랫폼은 전체 팹에 대한 모든 SEM 이미지를 측정하는 데 필요한 처리량을 달성할 수 있을 만큼 확장성이 뛰어난 쿠버네티스(Kubernetes) 클러스터 기반 아키텍처를 활용한다.

FAME 300은 지연 시간이 줄어들어, 팹에서 전방 피드포워드(feed-forward) 또는 피드백(feedback) 프로세스 제어에 사용할 수 있는 실행 가능한 데이터를 수분내 얻을 수 있게 해준다. FAME 300의 응용 분야에는 인라인(in-line) 미션 크리티컬 활용 사례와 HVM 모니터 활용 사례 등이 포함되며, 이 밖에 랏 배치(lot dispositioning), 실시간 일탈 감지(excursion detection), 에지 배치 오류 최적화, 리소그래피 및 식각(etch) 공정 장비 모니터링, SEM 장비 모니터링, SEM 플릿 매칭(fleet matching), 식각 장비 챔버 매칭 등 다양한 응용 또한 가능하다. 프랙틸리아는 HVM 모니터만 활용하는 사례를 위한 추가적인 도구 구성도 제공한다.