미국 화학소재 기업 듀폰이 한국에서 운영중인 공장을 증설해 극자외선(EUV) 노광 반도체 공정용 포토레지스트(PR) 생산 라인을 구축한다. EUV용 PR은 지난해 7월 일본이 우리나라를 상대로 발표한 수출규제 3대 품목 중 하나다. 이로써 일본의 3대 수출 금지 품목인 불화수소, 플루오린 폴리이미드, EUV 포토레지스트 가운데 두 가지 소재는 머지 않아 수급 상황이 개선될 전망이다. 최근 국내 기업이 불화수소를 개발 완료하고 양산 채비를 서두르고 있기 때문이다. 

산업통상자원부는 미국 현지시간 8일 듀폰이 ‘EUV용 PR 개발·생산시설 구축’을 위한 투자신고서를 코트라에 제출했다고 밝혔다. 기존 생산 공장이 있는 충남 천안에 올해부터 2021년까지 투자를 한다. 지난 1998년부터 천안 2개 공장에서 반도체 회로기판용 소재·부품을 생산해 온 듀폰은 신규 공장을 이 곳에 건설할 계획이다. 이번 투자 규모는 2800만달러다.

듀폰이 신규 생산할 EUV용 PR은 반도체 웨이퍼에 패턴을 형성하는 포토 리소그래피 공정에서 사용되는 핵심 소재다. 국내에서도 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 등 다른 반도체 PR은 일부 생산이 가능하다. 하지만 파장이 각각 248나노미터(㎚)와 198㎚로 길어 EUV용(13.5㎚)보다 미세공정에 적합하지 못하다. EUV용 PR은 대일 의존도가 높다. JSR, 신에츠, 도쿄오카공업(TOK) 등 일본 기업들이 세계 시장의 90% 이상을 점유하고 있다. 이에 따라 정부는 지난해 7월 일본의 수출규제 이후 반도체 소재·부품·장비 수급을 안정화하기 위해 듀폰측과 접촉해왔다고 밝혔다.

이번 듀폰의 증설 투자 계획은 EUV용 PR외에 다른 반도체 소재인 화학적기계연마(CMP) 패드도 포함된다. CMP 패드는 반도체 웨이퍼 표면을 화학적, 기계적 방법으로 연마해 평탄하게 만드는 과정에서 사용되는 재료다. 듀폰은 세계 CMP 시장에서 80% 이상 점유율을 가진 선두 업체다. 따라서 이번 투자로 수입대체 효과와 더불어 CMP 원재료 생태계가 강화될 것이라고 정부는 기대했다. 정부는 듀폰 투자 부지를 외국인투자지역으로 지정하고 임대료 감면 등 혜택을 제공한다.

존 켐프 듀폰 사장은 투자신고서를 제출하는 자리에서 “EUV용 PR 개발·생산을 위해 한국 내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력해 나갈 것”이라고 밝혔다.

산업부측은 “소재·부품·장비, 신산업 분야 유망기업에 대해서는 선제적으로 투자 인센티브를 제안해 협상할 것”이라며 “투자가 결정되면 정부·해당 지자체·유관기관 등이 합동 TFT를 구성해 투자 애로 해소 등 적극적으로 지원할 방침”이라고 밝혔다.