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KLA, 오버레이 인라인 계측 시스템 '아처 750' 및 11K CD 계측 시스템 내놔
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KLA, 오버레이 인라인 계측 시스템 '아처 750' 및 11K CD 계측 시스템 내놔
  • 김주연 기자
  • 승인 2020.02.28 17:25
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KLA는 집적회로 제조를 위한 이미징 기반 오버레이(Overlay) 계측 시스템 '아처(Archer) 750'과 11K 광학 임계치수(CD) 장비 '스펙트라쉐이프(SpectraShape)'를 출시했다./KLA

KLA는 집적회로 제조를 위한 이미징 기반 오버레이(Overlay) 계측 시스템 '아처(Archer) 750'과 11K 광학 임계치수(CD) 장비 '스펙트라쉐이프(SpectraShape)'를 출시했다고 26일 밝혔다. 고성능 로직(Logic) 반도체 및 메모리 반도체 제조에 활용 가능하다.

반도체는 수백 개의 층으로 구성된다. 각 층에는 저마다의 그림(패턴)이 새겨져있는데, 이 그림이 초기 설계와 정확히 맞아떨져야 반도체가 제 기능을 한다. '아처 750'은 이 때 각 층의 패턴 형상이 이전 층의 형상과 제대로 정렬돼있는지를 검증하는 장비다. 공정 변동이 존재하는 상황에서도 오버레이 오류를 정확하고 견고하게 측정하면서도 생산성은 산란계측(scatterometry-based) 기반 시스템과 비슷하다. 생산 라인 내에 들어가는(인라인) 장비로, 노광 및 식각 엔지니어들은 이를 통해 공정 이탈점을 파악하고 패턴 완성도를 높여 수율을 빠르게 개선할 수 있다.

'스펙트라쉐이프'는 감도와 생산성을 유례없는 수준으로 조합, 이전에는 접근 불가능했던 웨이퍼 형상, 구조 및 소재를 지원한다. 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자 형상을 고정밀도와 높은 속도로 측정할 수 있는 역량을 보유해 공정 문제를 빠르게 파악하고 생산 가동 중 공정을 엄격히 모니터링을 가능하게 한다.

두 시스템은 세계적인 선도 IC 제조업체의 인증을 거쳐 가동 중이며 혁신적인 전자 소자를 생산하는 다수의 공정 단계에서 중대한 영향을 미칠 수 있는 피드백을 제공한다. 또 실시간 공정 제어와 엔지니어링 모니터링 분석을 지원하는 KLA의 첨단 데이터 분석 시스템 '5D Analyzer'와 결합해 사용 가능하다.

존 매드슨(Jon Madsen) KLA의 계측 부서 수석부사장(Sr.VP) 겸 재너럴매니저(GM)는 “첨단 칩에 새로운 구조와 신규 물질이 접목되면서 IC 업체들은 원자 단위에서 측정을 해야 하는 공정 허용 범위에 직면해 있다”라며 “두 시스템은 Fab 고객들이 필요로 하는 공정 제어 역량을 제공하며 고객들이 세계를 발전시킬 수 있는 혁신적인 전자제품을 생산하도록 지원한다”고 말했다.


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